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佐々木 貞吉; 中岸 信彦*; 村松 康司*
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A, 467-468(Part.2), p.1489 - 1492, 2001/07
被引用回数：3 パーセンタイル：28.27(Instruments & Instrumentation)軟X線領域で高い検出効率をもつことが見いだされたCCDを、軟X線発光分光装置に取付け性能試験を行った。装置はローランド半径1m、マイクロスリット幅3.9
m、グレーティングライン密度2400/mm、CCD位置分解能~24mであった。発光の励起源として1.5keV電子線を用い、遷移金属単体及び遷移金属酸化物からの発光スペクトルを測定した。スペクトルピークのライン幅を、ALSにおける放射光励起のデータと比較したところ、ほぼ同等のスペクトルであることがわかった。放射光励起と組合わせることにより、従来のMCPを採用した装置と同等もしくはそれ以上の性能が得られると期待される。
竹下 英文; Pham, T. L. H.*; 吉井 文男; 久米 民和
食品照射, 35(1-2), p.59 - 63, 2000/09
植物の生育を促進することは、食糧を増産する技術に繋がる。このような期待される方法の一つとして、放射線照射が試みられている。しかし、発芽率の増大や生育促進効果があるという報告も多数あるが、再現性の点で信頼に欠けるものが多かった。従来、照射には透過力の高い
線が用いられているため、刺激効果と同時に損傷が起こり、効果を不明確にしていると考えられる。そこで、植物本来の機能を損なうことなく植物体表面に刺激効果を与えるため、照射深度の調節が可能な低エネルギーの電子線を用いることを試みた。その結果、低エネルギー電子線照射(150-250keV)は、種子(ダイズ、トウモロコシ)の発芽及び生育を促進し、特に根の成長に顕著な効果があることがわかった。また、ダイズ種子に低エネルギー電子線を照射することによって、子葉におけるファイトアレキシンの誘導が促進された。
橋本 昭司; 箱田 照幸; 広田 耕一; 新井 英彦
Radiation Physics and Chemistry, 57(3-6), p.485 - 488, 2000/03
被引用回数：26 パーセンタイル：82.67(Chemistry, Physical)種々の工業プロセスから環境中に放出される有機物は環境汚染の観点から問題となっている。原研では揮発性有機物を含むガスに放射線照射して分解する技術の開発研究を行っている。本研究ではベンゼンやトルエン等の芳香族化合物並びにトリクロルエチレンやテトラクロルエチレン等のクロルエテンへの放射線照射効果を調べた。その結果、芳香族化合物では分解のG値が1~2であり、濃度減少分の30~60%がエアロゾルに変換されることを明らかにした。一方、クロルエテンの場合では、エアロゾルはほとんど生成しなかったが、分解のG値は芳香族化合物の数十から百倍も大きく、その値は処理濃度が高いほど大きくなった。
幕内 恵三; 吉井 文男; F.Akhtar*; S.Varghese*; 勝村 傭介*
Proc. of 6th Int. Conf. on Radiation Curing (RadTech Asia'97), p.836 - 839, 1997/00
天然ゴムラテックス工業における低エネルギー電子加速器の利用の可能性について、(1)放射線加硫及び(2)表面改質の両面から検討した。(1)の放射線加硫では、かき混ぜ装置の付いた照射容器を用いることにより、従来は不可能と考えられていた天然ゴムラテックスの大量照射を可能にした。(2)の表面改質では、放射線加硫ラテックスフィルムに親水性モノマーを塗布し、電子線を照射することにより、親水性ハイドロゲルの薄膜をつくり、ゴム表面の粘着性を下げることができた。
幕内 恵三; 吉井 文男; 武井 太郎*; 木下 忍*; F.Akhtar*
日本ゴム協会誌, 69(7), p.500 - 506, 1996/00
低エネルギー(175、250、300keV)電子線による天然ゴムラテックスの放射線加硫を行った。かき混ぜ装置の付いた反応槽方式と回転ドラム方式の2方式について比較した。反応槽方式は、エネルギー利用効率の点でドラム方式よりやや有利であった。一方、回転ドラム方式には、連続照射という特徴がある。反応槽の場合、かき混ぜが不十分であると、粒子間の橋かけ密度が不均一となり、物性低下となる。回転ドラム方式では、照射中に発生するオゾンの除去が必要である。
幕内 恵三; 吉井 文男; J.Gunewardena*
Radiation Physics and Chemistry, 46(4-6), p.979 - 982, 1995/00
被引用回数：17 パーセンタイル：82.24(Chemistry, Physical)300keV低エネルギー電子線による天然ゴムラテックスの放射線加硫のため、かき混ぜ装置の付いた照射容器を製作した。容器の直径は20cm、深さは17cmであった。容器上部に冷却槽の付いたビーム窓を固定した。窓の寸法は、10
10cmであった。かき混ぜ羽根は容器上部から斜めに装入した。回転速度は可変で、最大は280rpmであった。容器内に3.2lのラテックスを入れ、かき混ぜ速度やビーム電流を変化させて照射実験を行った。300keVの電子線のラテックス内透過は0.2mm程度であるが、照射中に適切に撹拌すると、本法のようなバッチ式照射でも、放射線加硫できることがわかった。しかし、撹拌中に泡が発生すると、放射線エネルギーが泡に吸収され、泡がパンケーキ状に同化することがあり、泡の発生抑制が重要であることがわかった。
W.H.Chung*; 小嶋 拓治; 岡本 次郎*
Radioisotopes, 43(5), p.278 - 282, 1994/05
メチレンブルー(MB)及びメチルオレンジ(MO)で着色した厚さ約20mのポリビニルアルコール(PVA)フィルムについて、低エネルギー電子線(150-300keV)に対する線量応答を調べるとともに、これらを用いた深度線量分布測定を行った。線量応答には、MB/PVA及びMO/PVA、それぞれ、波長662nm及び434nmにおけるピークの吸光度変化(減少)を用いた。線量応答曲線において、MB/PVAは約30Gyまで、MO/PVAは約300kGy以上まで良い直線性を示した。深度線量分布測定では、EDMULTコードによる計算結果との比較を行い、いずれのフィルムも比較的よく一致することを明らかにした。
来島 利幸*; 菅 博*; 中瀬 吉昭
Applied Radiation and Isotopes, 45(7), p.759 - 765, 1994/00
被引用回数：2 パーセンタイル：28.09(Chemistry, Inorganic & Nuclear)三醋酸セルローズ(CTA)薄膜に300keV電子線を照射した場合の深部吸収線量の計算値と実測値を比較した。試料を移動しながら照射する場合(動的照射)と移動しない場合(静的照射)の深部吸収線量分布を比較検討し、入射電子の角度が大きく影響することを明らかにした。基材による後方散乱電子の影響も本計算法(モンテカルロ法)でシミュレーションできること、さらに低線量率(低フラックス)電子線の場合に良好なシミュレーション結果が得られること、を明らかにした。
春山 保幸; 四本 圭一; 岡本 次郎
JAERI-M 93-114, 46 Pages, 1993/06
高崎研究所の低エネルギー電子加速器は日新ハイボルテージ社製で、非走査型の低エネルギー電子加速器である。本装置は油封入式高電圧発生器部と中心軸に線状カソードを配置した円筒型の加速部及び照射用コンベアで構成される。高電圧発生器と加速部はケーブルで接続され、照射用コンベアを用いて不活性ガス雰囲気中でバッチ式の照射が行える。加速器の出力は300kV,100mAでビーム幅は60cmである。本報告では装置の仕様、運転手順及び運転特性について述べる。
嘉悦 勲; 熊倉 稔
Radiation Physics and Chemistry, 30(4), p.263 - 270, 1988/04
酸素・抗体などの緩衝水溶液とモノマーの混合物に近エネルギー電子線を照射することにより、薄膜状の固定化物が得られ、膜厚はエネルギーと透過深さで決り、膜を除去して照射をくり返すたびに同一膜厚、同一活性の固定化物が得られることが判った。
須永 博美; 田中 隆一
放射線と産業, (37), p.29 - 34, 1987/00
最近の放射線プロセシングでは150~300kV程度の電圧で電子加速を行う。いわゆる低エネルギー電子加速器を用いたものの進展が目ざましい。放射線利用において共通基盤技術である吸収線量の評価法の現状および問題点について、この低エネルギー電子線の場合について述べる。低エネルギー電子線は飛程が短かく、線量の絶対測定が難しいということが線量評価における特徴であり、現状では、二次線量計である薄いプラスチックフィルム線量計により測定が行われている。また計算で線量を求める方法についても検討が進められている。線量評価における問題点としては、線量を試料の深さ方向のどの位置の値で示したらよいのか統一されていないこと、使用されている線量計に特性上の問題があることなどが挙げられる。線量の同一評価基準を確立するには評価法や線量計の校正法をマニュアル化することが有用と思われる。
箱田 照幸; 高橋 絢香*; 島田 明彦; 山本 春也; 有谷 博文*; 八巻 徹也
no journal, ,
水溶液へ300keV以下の低エネルギー電子線を照射することで液表層にプラズマが形成され、それを反応場とした塩化白金酸イオンの還元によって白金ナノ粒子膜が生成する現象を見出した。本研究では、このプラズマ反応場の特徴を活かした貴金属ナノ粒子膜の作製指針を得るため、塩化金酸イオンを用いたときのナノ粒子膜生成について調べた。その結果、白金同様、金(Au)でも水溶液表面に膜状生成物が生じることを確認し、塩化金酸イオンと共存させるアルコールとしてエタノールよりも2-プロパノールの方がより均一粒径(5-20nm)で高密度な粒子膜を生成した。また、X線光電子分光分析により、粒子膜を構成しているAuの85%が金属Au(0)まで還元されていることがわかった。TiO
基板に転写したAuナノ粒子膜を200
Cに加熱しながら1000ppmの一酸化炭素を含む空気を流通すると二酸化炭素の生成が見られたことから、その触媒作用が確認できた。以上の結果から、電子線誘起の極表層プラズマ反応場を用いた新たな触媒作製技術の可能性を拓いた。
